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_id: '39850'
abstract:
- lang: eng
  text: In der Halbleitertechnologie werden die Materialien Siliziumdioxid, Siliziumnitrid,
    Polysilizium, Silizium, Aluminium sowie Wolfram und Titan mit ihren jeweiligen
    Metallsiliziden geätzt. Die Ätztechnik dient dabei zum ganzflächigen Abtragen
    eines Materials oder zum Übertragen der Struktur des lithografisch erzeugten Lackmusters
    in die darunter liegende Schicht. Für diese Aufgabe bieten sich einerseits nasschemische
    Ätzlösungen an, zum anderen eignen sich speziell entwickelte Trockenätzverfahren
    zur geforderten präzisen Strukturübertragung vom Lack in das Material.
author:
- first_name: Ulrich
  full_name: Hilleringmann, Ulrich
  id: '20179'
  last_name: Hilleringmann
citation:
  ama: 'Hilleringmann U. Ätztechnik. In: <i>Silizium-Halbleitertechnologie</i>. Vieweg+Teubner
    Verlag; 2004:65–90. doi:<a href="https://doi.org/10.1007/978-3-322-94072-8_5">10.1007/978-3-322-94072-8_5</a>'
  apa: Hilleringmann, U. (2004). Ätztechnik. In <i>Silizium-Halbleitertechnologie</i>
    (pp. 65–90). Vieweg+Teubner Verlag. <a href="https://doi.org/10.1007/978-3-322-94072-8_5">https://doi.org/10.1007/978-3-322-94072-8_5</a>
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    Vieweg+Teubner Verlag, 2004, pp. 65–90, doi:<a href="https://doi.org/10.1007/978-3-322-94072-8_5">10.1007/978-3-322-94072-8_5</a>.
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date_created: 2023-01-25T08:39:18Z
date_updated: 2023-03-21T10:05:00Z
department:
- _id: '59'
doi: 10.1007/978-3-322-94072-8_5
language:
- iso: eng
page: 65–90
place: Wiesbaden
publication: Silizium-Halbleitertechnologie
publication_identifier:
  isbn:
  - 978-3-322-94072-8
publisher: Vieweg+Teubner Verlag
status: public
title: Ätztechnik
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year: '2004'
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